ASML — нидерландская компания, крупнейший производитель литографического оборудования для микроэлектронной промышленности (изготовления СБИС, микросхем памяти, флеш-памяти, микропроцессоров и т.п.). Оборудование ASML используется в разных странах, компания имеет более 60 пунктов обслуживания в 16 странах.
Центральный офис компании находится в Велдховене, Нидерланды; там же находятся исследовательские и производственные подразделения. Акции компании торгуются на AEX и NASDAQ под названием ASML.
Компания:
Компания, изначально называвшаяся ASM Lithography, была основана в 1984 году как совместное предприятие компаний Advanced Semiconductor Materials International (ASMI) и Philips. В настоящее время только небольшая часть акций принадлежит Philips.
C рыночной капитализацией в 350 млрд долларов США (на осень 2021 года) компания находится в самой верхней части американского индекса NASDAQ-100.
Компания тесно сотрудничает с немецкой фирмой Zeiss, которая является её основным поставщиком оптики.
Конкурентами компании являются Canon и Nikon.
Продукция:
Литографические установки ASML используются в производстве интегральных микросхем. В таких установках происходит процесс оптического проецирования специальных частично прозрачных шаблонов (масок) на поверхность полупроводниковой пластины, покрытую тонкой плёнкой светочувствительного материала (фоторезиста). Для каждой пластины эта процедура повторяется несколько десятков раз. После каждого проецирования происходит обработка пластины с нанесённым фоторезистом, в процессе которой формируются электронные структуры микросхем. Оптический метод, применяемый в установках ASML, используется в настоящее время для производства практически всех интегральных схем.
Лидирующим поставщиком устройств для литографии ASML стала в 2002 году. На 2007 год, ASML имеет долю рынка продаж фотолитографического оборудования в 65% (во всём мире).
На 2008 год установка ASML высшего класса Twinscan XT:1950 могла использоваться с техпроцессами вплоть до 38 нм со скоростью до 131 пластины в час. В установке используется иммерсионная литография с водяной прослойкой и аргон-фторидный (argon-fluoride, ArF) эксимерный лазер с длиной волны 193 нм. На тот же момент, в среднем, литографическая установка стоила 22 млн евро.
В 2009 году ASML разрабатывает установки с лазерами на 13,5 нм (EUVL). 22 апреля 2009 бельгийский исследовательский центр Imec представил работоспособные чипы КМОП SRAM выполненные по техпроцессу 22 нм на прототипе установки ASML с EUVL.
Основные серии литографов ASML:
— 1984: PAS 2000, разрешение до 1 мкм, точность позиционирования до 250 нм;
— 1989: PAS 5000, разрешение около 0,5 мкм, точность до 100 нм;
— 1990-е: PAS 5500, разрешение 400—90 нм, точность до 100—12 нм;
— 2000-е: семейство TWINSCAN (NX, NXT), разрешение 100—38 нм, точность до 20—2 нм;
— 2010-е: экспериментальные EUV системы TWINSCAN NXE, разрешение 38—19 нм, точность лучше 3 нм.
Российские пользователи:
В России использование степперов (литографов) ASML планировалось (по состоянию на 2008 год) на фабрике Ангстрем-Т.
Среди российских пользователей ASML также можно отметить НИИСИ, который использует установку проекционной пошаговой мультипликации (степпер) ASML PAS 5500/250С.
Установки ASML используются на передовой линии по производству микросхем в Зеленограде на заводе «Микрон» (PAS 5500/750F 248 nm/0.7 - 120 пластин в час и PAS/1150C 193 nm/0.75 - 135 пластин в час).
| Производство электроники |
